臨界膠束濃度測量儀（光學接觸角儀）

      臨界膠束濃度(CMC)是測量和表征表面活性劑的重要參數，必須通過實驗來確定。所有測量CMC的方法中，基于表面界面張力測量CMC的方法是常見的一種。

　　傳統上，采用DuNoüy環法或Wilhelmy片法來確定表界面張力，但無論是DuNoüy環法或Wilhelmy片法都不適合與含表面活性劑溶液一起使用。

　　Wilhelmy片法遇到表面活性劑分子吸附到探針金屬（通常是鉑）表面的問題，會導致明顯的測量誤差，甚至可能影響溶液中表面活性劑的濃度。DuNoüy環法則上僅適用于單組分（即純凈）液體， 當涉及表面活性劑時密封圈通常很難*清潔，并且對應于特定的動態或平衡狀態無法獲得表面張力值。

　　與傳統測量方法形成鮮明對比，臨界膠束濃度測量儀（光學接觸角儀）LSA100CMC采用光學懸滴分析法測量臨界膠束濃度(CMC)，LSA100CMC 配置兩個連續注射單元時可使用表面張力法進行全自動臨界膠束濃度的測量，其中一個注射單元進行不同濃度溶液的配置，另一個注射單元連續形成液滴，測量全過程在程序自動控制下工作，而且避免了使用吊片法測量時活性劑分子在鉑金片上吸附時產生的影響，是測量臨界膠束濃度的理想方法。

　　與傳統測量方法相比，臨界膠束濃度測量儀（光學接觸角儀）LSA100CMC提供了一種新穎的全自動測量方法，在幾乎所有都涉及到準確性，可靠性，便利性和對各種表面活性劑溶液的適用性以及自動化程度方面，都具有明顯的優勢。

　　LSA100CMC是一款性能、功能*的測量設備，操作簡單靈活，不僅能夠全自動測量臨界膠束濃度（CMC），而且具備一般光學接觸角測量儀的常規測量功能，廣泛應用于科學研究，產品開發以及工業和生產過程。